尼康Nikon Eclipse LV150N正置工業顯微鏡為通用正置顯微鏡，適用于反射光和/或透射光應用。非常適用于具有高度放大要求的非平整或未鑲嵌樣品。

尼康Nikon Eclipse MA100倒置顯微鏡結構緊湊，堅固耐用，可滿足高放大倍數需求。其非常適合進行平整樣品表面的鑲嵌樣品分析，并可配備使用明場（BF）、暗場（DF）、微分干涉對比（DIC）和偏振光（POL）等光源進行多種分析。

尼康Nikon MA200 Eclipse倒置顯微鏡結構緊湊，堅固耐用，可滿足高放大倍數需求。其非常適合進行平整樣品表面的鑲嵌樣品分析，并可配備使用明場（BF）、暗場（DF）、微分干涉對比（DIC）和偏振光（POL）等光源進行多種分析。

尼康Nikon SMZ800N變焦立體顯微鏡帶高分辨率和微距放大組件。非常適用于大型樣品分析和多焦點成像。

尼康Nikon SMZ18變焦立體顯微鏡 帶高分辨率和微距放大組件。非常適用于大型樣品分析和多焦點成像。